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銅材拋光核心目標(biāo)與原理分別是什么?

拋光銅材是通過物理研磨、化學(xué)腐蝕或電化學(xué)作用,去除銅材表面氧化層、劃痕、毛刺等缺陷,使其獲得平整、光亮甚至鏡面效果的加工工藝。

銅材(如純銅、黃銅、青銅)因易氧化(表面形成氧化銅、堿式碳酸銅 “銅綠”)、加工后表面粗糙,需通過拋光提升外觀質(zhì)感、增強(qiáng)耐腐蝕性,廣泛應(yīng)用于裝飾、電子、五金等領(lǐng)域。

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下面小編給大家講一講銅材拋光的核心目標(biāo)與原理分別是什么?
1. 核心目標(biāo)
外觀提升:將銅材表面粗糙度(Ra)從初始的 3.2-12.5μm 降至 0.02-0.8μm,實現(xiàn)亞光、亮光或鏡面(Ra≤0.04μm)效果,滿足裝飾或精密部件的外觀需求;
性能優(yōu)化:去除表面氧化層和微觀缺陷,減少腐蝕介質(zhì)(如空氣、水分)的附著點,延長銅材使用壽命;部分精密場景(如電子觸點)還需通過拋光降低接觸電阻。
2. 基本原理
銅材拋光本質(zhì)是 “選擇性去除”:通過機(jī)械力(研磨顆粒摩擦)、化學(xué)試劑(溶解氧化層 / 軟化表層銅)或電場作用(電解溶解表層),優(yōu)先去除表面凸起的氧化層、劃痕,使表層銅原子重新排列,形成平整光滑的表面。
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